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岡田 美智雄*; 盛谷 浩右; 吉越 章隆; 寺岡 有殿; 中西 寛*; Dio, W. A.*; 笠井 秀明*; 笠井 俊夫*
Chemical Physics, 301(2-3), p.315 - 320, 2004/06
被引用回数:14 パーセンタイル:41.85(Chemistry, Physical)Cu(100)表面では酸素分子は解離吸着して0.5MLで飽和吸着に至る。2.3eVの並進運動エネルギーの酸素分子ビームを照射することにより、0.5ML以上に酸化が進行することが明らかになった。このときの吸着反応は被覆率に対して1次過程である。これは衝突誘起吸着が起こり、1個の酸素原子が分子から分かれて表面に吸着することを示している。一方、0.6eVの並進運動エネルギーでは2次過程であった。これは分子状解離吸着を意味している。
橋之口 道宏*; 岡田 美智雄*; 伊藤 裕規*; 笠井 俊夫*; 盛谷 浩右*; 寺岡 有殿
no journal, ,
われわれは最近Si(111)-77表面でのNO分子の解離性吸着において、配向分子線とX線光電子分光を用いて立体効果を観測した。58meVの並進運動エネルギーのNO分子のうち(1/2,1/2,1/2)状態を選別してSi(111)表面に照射した。吸着種はXPSで分析した。反応はO端衝突よりN端衝突の方が起こりやすいことがわかった。その立体効果は600Kでは非常に小さくなった。この結果は狭い前躯体状態での一時的なトラップがこの表面反応の立体ダイナミクスにおいて鍵となる役割を担っていることを表している。